IC(製造工程1)
では、ICはどのようにして作られるのか。
■ICの製造工程
製造工程は下記のようなります。非常に高度な技術で複雑な工程です。全部を紹介するのは無理ですのでグレーに着色した部分を紹介します。
■フォトマスクの製造工程
フォトマスクというのはICのモトになる回路のことです。これは写真で言えばネガに相当するもので、このパターンをシリコンウェハーに紫外線を使って焼き付けるのです。
ではまず、シリコン・ウェハーの製造から・・・
◆多結晶シリコンから単結晶シリコンを作る(多結晶→単結晶成長)
天然のシリコンは分子構造がバラバラの多結晶状態(左側)です。これを分子がきちんと整列している単結晶状態(右側)にしなくてはなりません。 | |||
多結晶シリコン | 単結晶シリコン |
そのための製法はいくつかありますが代表的なのはCZ(Czochralski )法です。
石英坩堝(るつぼ)にシリコンを入れ、約1420℃で加熱します。シリコンが溶けたら、釣り糸を垂れるように種シリコンを溶けたシリコンの中に入れ、回転しながら引き上げます。
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◆切断
この単結晶シリコンインゴットを規定の長さに切断し、規定の直径になるように外周を研削します。直径は現在(2002年)、最大300mmです。 |
次にインゴットを固定して薄く切断します。
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◆シリコンウェハーの完成
こうして切断されたのがシリコンウェハーです。この後も様々な工程を経て製品(まだ最終製品ではありませんよ)となるのです。 |